Meltex MPCVD-II
Meltex MPCVD-II型设备利用微波等离子化学气相沉积法，使高纯度氢气在高功率微波作用下产生超高能量密度的等离子体，高纯度甲烷气体在等离子作用下变成游离的碳原子和氢原子，游离的碳原子在等离子作用下逐步按立体排列的方式沉积到底部的钻石籽晶上，使钻石籽晶逐步长厚形成与天然金刚石结构成分完全一样的CVD培育单晶金刚石。
腔体 | 不锈钢双水套结构，全金属密封 |
腔体本底真空Pa | 0.005Pa |
真空系统氦检漏率Pa.m3/s | 小于1∗10^(−10)Pa.m3/s |
工作气压范围 | 5 ~ 350Torr |
微波系统频率MHz | 2450 ± 25MHz |
微波系统功率kW | 0.5~6kW连续可调 |
气路 | 标准系统采用4路流量计，可根据客户需求提升至6路流量计 |
控制系统 | PLC + 触摸屏 全自动工控系统 |
长晶工艺 | 根据客户需求可提供多种晶体生长工艺 |
尺寸mm | 1500*1500*1800mm |
Meltex MPCVD-III
摩泰科技自2015年开始 MPCVD 的批量工艺设备研制，经过数次迭代更新，通过自主研发不断提升设备性能与相关设备器件国产化程度。在Meltex MPCVD-II型设备经过市场验证和客户认可的一年后，成功推出Meltex MPCVD-III型设备，为客户提供多样化选择。
同时，摩泰科技致力于打造极致性能与业内顶级技术的MPCVD单晶金刚石设备，后续Meltex MPCVD-IV型、Meltex MPCVD-VIII型、Meltex MPCVD-XII型等迭代设备将陆续投放市场。
